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中国能做3纳米的光刻机吗

一、中国目前的技术在90nm,最先进的ASML也是5nm,3nm无人能造

中国能做3纳米的光刻机吗

首先回答问题,那就是不能,目前中国量产的光刻机技术是90nm,90nm之后还有N个台阶,离3nm的差距,至少是10年起步。

中国能做3纳米的光刻机吗

中国目前光刻机技术最强的是上海微电子,生产的光刻机还在90nm阶段,处于光刻机技术的最后一档。

中国能做3纳米的光刻机吗

如上图所示,中国的SMEE处于低端,也就是90nm,而日本canno也处于这一档,而Nikon处于7-28nm。

而技术最强的ASML目前的技术是5nm/7nm技术,也没有3nm技术,所以现在说3nm真的是太早太早了。

二、光刻机的核心技术是什么,为何这么难?

那么光刻机的核心技术是什么,为何这么难?其实从元件来看,核心元件是镜头,因为光刻机的原理是放大的单反,用光把电路图刻画在硅片上,一次又一次,一层又一层的刻画。

所以核心指标是分辨率、套刻精度,分辨率则是指能够刻画线路图的分辨率,这个就是工艺的节点技术,比如5nm、7nm等。

而套刻精度则是指多次刻画之间的精度,这两项主要是在于组装技术,靠常年累月积累,经验来实现的,这就是ASML的厉害之处,别人拿了它的图纸,它的元件,也未必能够做到的分辨率和套刻精度。

近日我国首款基于龙芯芯片的国产域名服务器发布,我国芯片达到了什么水平

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中国能做3纳米的光刻机吗

前几天国产的域名服务器发布搭载国产的龙芯芯片,就现在来看国内芯片距离真正的顶级差距还是很远,在手机基带芯片方面华为公司算是走在前列了,而在台式机方面主要还是英特尔和AMD两家,国产龙芯芯片已经取得了不小的进步,但距离顶级还差点很远,但并不妨碍可以在一些设备开始使用,北斗系统就已经启用了龙芯芯片,并且在一些军工领域已经使用上了。

中国能做3纳米的光刻机吗

现在龙芯采用28纳米制造工艺,最高的主频1.5G,距离顶级的还是有非常大的差异,任何技术都需要一个过程,华为芯片也是经过十几年的打磨出来的,开始麒麟芯片放在手机上卡顿和稳定性都不咋样,但后续在市场收集到有用信息之后快速补偿上。

中国能做3纳米的光刻机吗

先说说芯片几个关键技术点,芯片设计,芯片制造工艺,芯片封测,目前华为公司在芯片设计上已经接近全球顶级水平,国内其他的企业或者组织距离顶级还是差的比较远。在芯片制造工艺上核心技术在荷兰人手中,现在国内想买光刻机基本上很难拿到最新的版本,基本上都是过时而且价格非常高,国内光刻技术最顶端14纳米,这一块差距还是非常明显,目前芯片制造商老大还是太晚的台积电,现在主要是7纳米技术,跟华为公司合作关系比较密切。

芯片是一个不仅仅需要大量的资金支持,更需要顶级人才,如同前阵子任正非在接受采访时候说到,芯片不仅仅是砸钱这么简单的事情,还需要砸足量的科学家,更加重要的是时间长,国内很多技术都需要类似芯片这种投入和时间的积累。所以有些技术需要时间和经验的积累,不像建个楼房或者修个路那么简单的事情。

国内整个半导体行业进步非常大,整体差距还是非常明显,前些日子的中兴断供以及华为被封锁事件都是因为国内芯片产业不成熟造成,如果自身的能力都具备了,也就不存在这种问题了,虽然我们已经取得了很大的进步,但距离顶级还差得远,还得继续埋头苦干,希望能帮到你。

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